阿斯麦（ASML）是荷兰的一家高科技企业，长期以来基本垄断全球最先进的光刻机市场。
光刻机是芯片制造不可或缺的关键设备，尤其是极紫外光刻机（EUV），目前只有 ASML 能生产这类设备，被视为全球最尖端的半导体装备。
几十年来，台积电、三星、英特尔等全球最先进的芯片制造商都依赖 ASML 的设备来生产先进制程芯片。
ASML 的前总裁彼得·温宁克曾在公开场合对中国推进自主研发光刻机的努力发表过尖锐评论。
温宁克在一次采访里认为，中国试图通过自主研发光刻机并推动本土芯片产业链发展，会“破坏全球产业链平衡”。
温宁克担任 ASML 总裁期间，公司一方面努力维护自身技术领先优势，一方面也面临来自出口限制和国际政治压力的双重挑战。
特别是自 2018 年起，美国政府施压荷兰政府，要求限制 ASML 向中国出口最先进的 EUV 机器。由于这一出口管控，中国至今未能获得 ASML 最新的 EUV 系统。
在那次引发热议的采访中，温宁克用“破坏全球产业链”这样的字眼描述中国的研发行动。他所关注的核心问题是全球半导体供应链的分工与稳定。
在传统意义上，全球半导体产业链各国专注不同领域和工序，然后通过贸易形成互补。
荷兰的 ASML 在光刻机技术上多年领先，欧美国家和亚洲合作伙伴一起构建了这套复杂的供应链体系。
温宁克认为，一旦中国成功研发出高端光刻设备，全球市场格局可能发生改变，这对 ASML 的市场地位和盈利模式会带来挑战。这样的担心并不奇怪，因为 ASML 本身对中国市场非常依赖。
据行业分析，ASML 很长时间内从中国大陆获得了大量订单，即便在高端 EUV 机器被禁出口之外，其传统 DUV 系统仍然广泛销往中国，并占据中国较大市场份额。
温宁克的观点还有一个背景是国际出口限制政策对 ASML 业务的影响。在多轮美欧对中国科技出口管制中，ASML 被要求遵守限制。
这导致 ASML 无法向中国交付最先进的 EUV 设备。温宁克曾公开表态称这种出口管制会影响公司在中国的服务和市场布局。
中国在面对这种外部限制时，没有放弃对关键装备的自主研发。在有限资源和阻力之下，中国企业与科研机构通过长期投资和研发布局，在成熟制程的光刻机设备上取得进展。
中国公司如上海微电子装备集团（SMEE）等致力于开发国产光刻机，逐步填补中低端市场的装备空白。
尽管中国在高端 EUV 设备上仍有明显差距，但这一局面正在慢慢发生变化。据多家媒体报道，中国部分团队已经实现了极紫外光刻机原理性突破，有媒体称相关原型机能够产生 EUV 光源，尽管尚未能生产实际芯片。
这些进展被业界形容为中国半导体装备制造迈出重大一步，虽然中国距离真正量产级 EUV 系统尚远，但进步速度不容忽视。
值得指出的是，这些研发行动是在美国及盟友对中国实施出口管控的大背景下进行的，有分析认为，这种局面实际上也在促使中国加速构建自主产业链。
在温宁克发表那番评论之后，ASML 的管理层后来发生了变动。温宁克实际上已在 2024 年底宣布退休，由另一名高管接任。
新任 CEO 更多强调公司必须在遵守政策的前提下，继续开拓全球市场，特别是在复杂多变的中美科技竞争环境中保持业务稳定。
温宁克的那次表态把一个技术问题放大成了产业链稳定性和国家竞争力的讨论焦点。在海外报道中，不少评论援引他的观点，认为科技竞争会持续多年，甚至可能长时间内成为全球经济与外交关系的一部分。
对于中国来说，自主研发光刻机并不是孤立的举措，而是更广泛推进半导体产业自主可控战略的一部分。
中国近几年在芯片设计、制造、封装测试和核心设备研发领域投入巨大，这背后是对外部供应链风险的深刻认识。
中国推进光刻机本土化努力更多是产业发展需要，而不是有意破坏国际分工体系。随着时间推进和技术发展，这场围绕光刻机的争议仍将被新的进展所检验。